1. 无锡尼康售后服务中心
无锡是日资高地，很多知名日子企业在新区由公司 索尼，松下，尼康，大金等都有
2. 无锡尼康电子有限公司
新区很大，不知道你要到什么地方，可以坐35路，30路，31路，92路，763路，760路等
3. 无锡尼康电子厂在哪里
尼康（Nikon），是日本的一家著名相机制造商，成立于1917年，当时名为日本光学工业株式会社。1988年该公司依托其照相机品牌，更名为尼康株式会社。
“尼康（Nikon）”的名称，从1946年开始使用，是“日本光学”日文读音（Nippon Kogaku）的罗马字母缩写，并且融合了德文中蔡司照相机ZeissIkon中kon的写法。尼康其众多的相机产品中，最主要的有尼克尔（Nikkor）相机镜头、尼康水下照相机（Nikonos）、尼康F系列的135胶卷单反相机、还有尼康D系列的数码单反相机，消费性数码相机Coolpix系列，以及尼康Z系列数码微单相机。尼康也是分步重复半导体生产设备（分档器）的制造商。公司还生产护目镜，眼科检查设备，双筒望远镜，显微镜，勘测器材。
2017年10月30日，尼康中国正式对外宣布，该公司将停止位于无锡市的子公司尼康光学仪器(中国)有限公司的经营活动。与此同时，负责生产尼康数码相机以及数码相机配件的工厂也将停产。
4. 无锡尼康售后服务中心在哪里
中国是世界上最大的数码相机生产基地。
佳能
作为世界上销量最大的数码相机品牌，早在2003年就在珠海设立生产基地，到现在，佳能珠海工厂的产量已占佳能消费类数码相机的40~60%，其他部分在马来西亚、越南、台湾等地；高端产品仍然在本土生产。
索尼
索尼在中国大陆的上海、无锡设立生产基地；单反类产品主要在本土生产，消费类高端产品主要在上海生产，中端产品在马来西亚，部分低端产品在台湾；
尼康
尼康的相机工厂，主要设立在本土、中国，泰国等地。2002年，尼康在中国无锡投资建设了尼康无锡光学仪器公司，该公司是尼康全球三大生产基地之一。
三星
三星生产工厂主要在韩国本土和天津。三星的数码相机的生产主要是天津三星光电子有限公司，是一个独立的公司，从设计、生产、销售，全部在国内完成。
奥林巴斯
奥林巴斯1990年就在深圳设厂，深圳的工厂也是目前在中国最大的工厂。现在负责奥林巴斯大部分数码单反及消费相机的生产。目前月产量有30万台之多，平均每天生产1万台以上。奥林巴斯在中国深圳、番禺、北京三地建立了生产基地。
柯达
柯达的DC生产基地设在上海，几乎95%的柯达数码相机都是在上海工厂生产的，另外柯达在日本也有设计部门。 由于仅有上海一个工厂，所以在面对全球的需求时，肯定会力不从心，因此除了上海工厂外，柯达也有相当一部分机型，交由华晶科技以及亚光代工完成。
富士
富士的相机工厂主要在日本本土的仙台工厂和大陆的苏州工厂。2006~2007年，富士的数码相机生产重心从日本向中国转移，今后富士将有2/3产自中国，富士苏州将成为富士数码相机战略中的全球第一大生产基地。
宾得
宾得的数码相机生产工厂主要集中在本土和海外，比如越南。部分产品可能出自台湾普立尔科技。
综上，中国大陆已经成为目前世界上最大的数码相机生产基地。
5. 无锡尼康现在是什么厂
光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机。我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）ASML（中高端市场近乎垄断）比差距很大。
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸。
上海微电子装备(集团)股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域，2018年出货大概在50-60台之间。营业收入未公布，政府是有大量补贴的。处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2016年11月15日，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等参研单位的共同努力下，历经八年的戮力攻坚，圆满地完成了预定的研究内容与攻关任务，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台，为我国光刻技术的可持续发展奠定了坚实的基础。
合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月,是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000,已经实现最高200nm的量产。
无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。
先腾光电成立于2013年4月,已经实现最高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。
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